 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會 展覽概況
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第二屆國際背光源技術(上海)展覽會
The 2nd International Backlight(Shanghai)Expo
展覽時間：2013年5月22日至24日
展會地點：上海世博展覽館 /浦東新區世博館路111號
展會網址：blu.zyexpo.com
[亞洲唯一背光源技術展]
在顯示技術不斷進步的今天，巨大的LED顯示市場註定將背光源行業發展成為一個龐大的產業。作為顯示核心部件背光源，它的發光效果、功耗和質量將決定產品的顯像效果和壽命，在以手機、 PDA 、數字相機(DSC)、汽車（顯示器）、液晶顯示器 、液晶電視、家用電器、燈箱廣告等行業背光源獲得廣泛市場應用。
"第二屆國際背光源技術(上海)展覽會，簡稱「APFE2013」，是亞太地區首創背光源產業的最大規模盛會，將於2013年5月22日-24日在上海世博展覽館舉辦，同期與“第九屆國際模切展（全球最大）”隆重開展，涉及展覽總規模達18,000平方米，600多家展商預計將有來自國內外30,000人次的專業觀眾到場參觀!
2013年5月的上海，我們盛情邀請您以參展、參觀、采購、交流合作等各種形式來到[APFE2013]！
[展會背景]
上屆【背光源展】已於上海世博展覽館成功舉辦，在全球範圍為首創的背光源技術展，得到國內外背光源領域品牌企業大力支持，如英國TEKNEK、韓國樹研光學、德國亞德科、美國輻深、韓國FILEMAX、PROTEM、HI-LAND、SEKISUI、FUJI SHOKO、台灣郡威、岱棱、佑順發、豪晶、旌陽、SYSCO、東芝、康得新、布雷德、菲斯特、民特英、德龍等上百家企業參展。展會共接待來自手機、電腦、家電、終端電子制造商、面板、背光模組、模切、材料供應商等將近20,000觀眾到場參觀。
- 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會 展覽範圍
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背光源（背光模組)及相關導光板、光學膜、光源、背光組裝技術、背光模組的檢測儀器及檢測技術、背光模組制作設備等。
- 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會 參展費用
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1、國際標準展位：9m2（3m×3m）分設T 區（國際區），A 區（國內區）；
A 區：國內企業RMB 9800/展位 ：國內企業RMB 1000/m2/展期光地
T 區：國際展區USD 2000/展位 ：國際展區USD 200/m2/展期光地
- 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會 註意事項
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